真空等离子清洗机常见的应用

等离子体表面处理设备的常见应用如下：

1. 表面清洁：真空等离子体室内，由射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体，用等离子体轰击被清洗产品表面，达到清洗的目的。

2. 表面活化：经过等离子表面处理机处理后的物体，具有增强的表面能、亲水性、提高的附着力和附着力。

3. 表面刻蚀：利用反应性气体等离子体对材料表面进行选择性刻蚀，刻蚀后的材料转化为气相，由真空泵排出。处理后的材料微观比表面积增加，具有良好的亲水性。

4. 纳米涂层：经等离子体清洗机处理后，等离子体引导聚合形成纳米涂层。各种材料都可以通过表面涂层达到疏水性（拒水）、亲水性（亲水）、亲油性（防脂）和疏油性（防油）。

5. PBC制造：这实际上涉及到等离子体蚀刻的过程。等离子表面处理机通过等离子体轰击物体表面，实现对PBC表面胶体的去除。PCB制造商利用等离子清洗机的刻蚀系统进行去污刻蚀，去除钻孔中的绝缘层，最终提高产品质量。

6. 半导体/LED：等离子在半导体行业的应用是基于集成电路的各种元器件及连接线很精细，那么在制程过程中就容易出现灰尘，或者有机物等污染，极其容易造成晶片的损坏，使其短路，为了要排除这些制程过程中产生的问题，在后来的制程过程中导入了等离子表面处理机设备进行前处理，利用等离子表面处理机是为了更好的保护我们的产品，在不破坏晶圆表面的性能的情况下来很好的利用等离子设备进行去除表面有机物和杂质等。

在LED注入环氧胶的过程中，污染物会导致气泡的发泡速率过高，从而导致产品质量和使用寿命降低。因此，避免在密封过程中形成气泡也是人们关心的问题。射频等离子体清洗后，芯片和基板与胶体的结合会更加紧密，气泡的形成会大大减少，散热率和发光率也会显著提高。将等离子清洗剂涂抹在金属表面进行脱脂清洗。

7.过磷酸钙/有机发光二极管：这里指的是等离子清洗机的清洗功能。TSP: 清洗触摸屏的主要工艺，提高OCA/OCR的附着力，贴合，ACF、AR/AF镀膜等工艺/镀膜力，为了去除气泡/异物，通过使用各种大气压等离子体形式，各种玻璃和薄膜都可以用均匀大气压等离子体放电处理而不损伤表面。

8.真空等离子喷涂：由于真空等离子中有很高的能量密度,实际上能将具有稳定熔融相的所有粉状材料转化成为致密的、牢固附着的喷涂层,对喷涂层的质量起决定作用的是喷射粉粒在击中工件表面瞬间的熔化程度。真空等离子喷涂技术为现代化多功能涂复设备提高了效率。

等离子清洗机广泛的应用于印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污，软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。