低温等离子表面处理仪结构组成

等离子表面处理仪又称作等离子体清洗仪，通过等离子体去除样品表面的污染物从而达到清洗目的。使用等离子体处理样品表面不仅可以达到清洁表面的目的，而且可以改变材料表面的亲水性。

低温等离子表面处理仪结构组成

典型的低温等离子表面处理仪结构由五个部分组成，分别有真空腔体及电极组件、等离子体发生器、真空系统和控制系统。

等离子表面处理仪结构示意图

真空系统及电极组件

低温等离子表面处理仪中真空系统是一个关键部分。等离子体的产生,材料的处理均在该腔体中完成。真空系统提供保持等离子体产生时一定的真空度的处理气体以一定量进入真空腔体,一旦真空腔体达到产生等离子体所要求的真空度,等离子体发生器信号加到电极上便产生等离子体。处理气体通过真空系统中的流量控制器被导入真空腔体,由流量控制器控制每种处理气体精确流入保证低温等离子体处理材料的要求。低温等离子体是在电极板之间放电产生的,因此,在真空腔体中设计了极板组件,待处理的高分子材料存放在极板上。

电极组件有两个功能,一是低温等离子体发生器通过电极组件在真空腔体内产生低温等离子体,二是存放待处理的产品及材料。

等离子发生器

等离子体发生器信号加在电极上便开始激发真空腔体内的处理气体产生等离子体,处理用气体等离子体发生器能量被电离。常用等离子体发生器工作频率从千赫兹到兆赫兹。其中射频等离子体发生器的频率为13.56MHz,中频等离子体发生器的频率为40KHz。

控制系统

低温等离子表面处理仪的真空系统和等离子体发生器的运行均由控制系统控制。控制系统由作为核心,通过触摸屏作为人机接口,在触摸屏上进行手动操作和自动操作。在触摸屏上控制真空泵、等离子体发生器、进气阀、排气阀、气体流量计的开启,真空度的设置、处理时间、处理气体的选择和流量大小、等离子体发生器功率等都由控制系统进行控制,整个控制系统在自动状态下可适时进行动态控制。

以上就是关于等离子表面处理仪各部分结构组成的简单介绍。上述只是常见的关于（CCP）电容耦合等离子体产生方式的等离子表面处理仪结构介绍，不同等离子体放电方式的等离子表面处理仪结构略有不同，但是大部分结构组成都是相似的，只是在放电部分略有不同。