等离子体表面处理仪结构组成介绍

小型等离子体表面处理仪由四部分组成，包括真空获得、反应室、充气系统和电控系统。其中真空获得是在反应室建立本底真空环境，并维持动态的低气压状态，由真空泵、真空阀门、真空测量等组成；反应室是系统的核心部分，是等离子体处理仪的反应容器，要求具备真空密封、低放气率，同时对射频功率无反射，由不锈钢腔体、阻抗匹配器等组成；充气系统的功能是定量充入反应气体，由充气阀门、质量流量控制器和充气管路组成；电控系统是电源和控制系统的统称，由可编程控制器、触摸式一体化机、射频电源和低压元件组成。

等离子体表面处理仪结构如图所示

小型等离子体表面处理仪装置的运行过程如下：

1. 将要被清洗的工件送人真空室并加以固定，启动运行装.置，开始排气使真空室内的真空程度达到10Pa左右的标准.真空度。

2. 向真空室内引入等离子清洗用的气体并使其压力保持在100Pa左右，根据清洗的材质不同可分别选用氧气、氢气、氯气或氮气等气体。

3. 在真空室内电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿并通过辉光放电而发生离子化和产生出等离子体。让在真空室产生的等离子体把被处理工件完全笼罩住并开始清洗，一般清洗处理持续几十秒到几分钟。

4. 清洗完毕后切断高频电压并将气体及气化的污垢排出,同时向真空室内鼓人空气并将气压升至--一个大气压。

以上就是关于等离子体表面处理仪结构组成的介绍，20世纪90年代末，随着人们对环境保护的重视，等离子体表面处理的技术在国内引起了高度关注，设备和工艺研发取得了突飞猛进的发展，开展了在各行业的应用研究，逐步替代了传统的清洗方式，推进了半导体、电子装配等领域的技术发展。